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C-H-F 氛围下金刚石薄膜的低温CVD 生长过程分析*-金刚石与磨料磨具工程2024年01期

C-H-F 氛围下金刚石薄膜的低温CVD 生长过程分析*

作者:简小刚 梁晓伟 姚文山 张毅 张斌华 陈哲 陈茂林 字体:      

摘要 基于第一性原理的密度泛函理论对C-H-F 氛围下低温CVD 金刚石薄膜的生长过程进行仿真分析,计算H、F 原子在氢终止金刚石表面发生萃取反应的吸附能、反应热与反应能垒,并分析CF3、CF2、CF 3 种生长基团在带有活性(试读)...

金刚石与磨料磨具工程

2024年第01期